适用于先进封装领域200/300mm wafer Reflow工艺; 能有效减少各凸点的高度差,降低焊接凸点表面的粗糙度; 有效去除焊料中自带的氧化物; 控温精度高,设备自动化程度高。

产品用途:真空面向是晶圆和先进封装段应用于低温烘烤,烘干,除水。

主要用于电工、电子、产品零部件、材料、医药等科研单位。用于物品的干燥、烘培、热处理等实验。

主要应用于化合物半导体,金属电极,互联线是用金属剥离工艺,使光刻胶呈现倒梯形形貌,正常采用负胶工艺实现,因负胶有一定工艺难度和局部缺陷,例如分辨率不高,线宽均一性不好,倒梯形角度不稳定等因素。

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