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气氛控制网带炉(气氛烧结炉/气氛熔封炉/厚膜烧结网带炉)

应用领域: 1.1铜厚膜烧制 1.2金属氧化 1.3金属钎焊 1.4金属与玻璃密封 1.5玻璃薄膜退火的研究 1.6其他高温特殊气氛应用

所属分类:

关键词:半导体专用设备

产品咨询:

产品描述

(1)应用领域:

1.1铜厚膜烧制

1.2金属氧化

1.3金属钎焊

1.4金属与玻璃密封

1.5玻璃薄膜退火的研究

1.6其他高温特殊气氛应用

(2)特点:

2.1精确的空气导入

2.2加热元件加热快、加热均匀

2.3可靠的传送系统适应广泛的装载配置

2.4HMI具有内置分析、数据和事件日志

2.5可定制以满足特定的处理要求

规格

典型参数

备注

最高使用温度 (℃)

1050

 

使用气氛

N2,H2,O2及其他气氛组合

 

可选控制

精确氧含量/露点控制/指标的在线检测

 

网带宽度(mm)

150-1000

注1

带速范围(mm/min)

25-200

 

温度均匀度(℃)

±2-5

注2

控制温区

4-13

 

冷却方式

空气对流/强制风冷/水冷

 

注1:典型网带宽度为250/350/500/650/915;
注2:依据不同控制方式可以达到不同标准;

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