真萍科技

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全自动真空无氧烤箱

产品用途:真空面向是晶圆和先进封装段应用于低温烘烤,烘干,除水。

所属分类:

关键词:半导体专用设备

产品咨询:

产品描述

产品用途:真空面向是晶圆和先进封装段应用于低温烘烤,烘干,除水。

技术参数:

TASZ3050D203-N

TASZ3050D403-N

产品特点

 可搭载OHT实现无人化操作,节省空间,真空下低温烘烤缩短工艺时间,产品保护产品性能提升。

氧气含

50PPM

工艺温度

室温+30-300℃

产品规格

8/12inch 晶圆

存放数量

50PCS/管

加热器

热电阻加热

上料口

2个

机械手

1

温度范围

长期使用温度: 200℃,最高温度:300℃

升温速率

1~5℃/min

降温速率

3℃/min

加热功率

22KW

加热温区

3个

炉温均匀性

±3℃

控温热偶

K分度

温度控制方式

SSR

程序控制

P.I.D控制

炉腔材料

SUS316L

保温材料

陶瓷纤维

气氛控制

多路流量计调节进气

气氛

N2

真空度

≤10pa

洁净度

Class 100

翘曲度

12寸翘曲度≤2mm;

8寸翘曲度≤1mm

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